浏览次数:53发布日期:2023-04-25 08:44:08
退火炉是半导体设备制造中使用的一种过程,包括加热多个半导体晶片,以影响其电气性能。热处理是为不同的效果而设计的。加热晶片激 活掺杂剂,将薄膜转化为薄膜或将薄膜转化为晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜改变生长膜的状态,修 复注射损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶片衬底。
退火炉可集成到其他炉子处理步骤中,如氧化或自行处理。退火炉由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成。退火炉为节能周期式工作炉,超节能结构,采用纤维结构,节能百分之六十。
根据热源分类,退火炉主要包括电热炉、燃煤退火炉、燃油退火炉、天 然气退火炉、燃气退火炉等,其中自备燃气发生炉生产的燃气退火炉应用为广泛。气体退火窑减去燃烧室,直接用气体燃烧器在加热室喷射燃烧。为了降低能耗,气体退火窑经常配备热交换系统,将空气转化为燃烧热空气。